2026년, 왜 ‘EUV 노광장비’가 다시 주도 테마가 되나 2026년 5월 현재, 반도체 업황의 핵심 키워드는 메모리의 회복만이 아니라 비메모리(로직·파운드리) 경쟁의 재가속입니다. 그리고 그 중심에 있는 설비가 바로 EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선) 노광장비입니다. 미세공정이 3nm 이하로 진입할수록 EUV 의존도가 커지고, EUV 장비의 ‘도입 속도’가 곧 생산능력(CAPA)과 수율 경쟁력으로 직결됩니다.특히 AI 서버·엣지 AI·고성능 모바일 칩 수요가 꾸준히 확대되면서, 단순한 증설이 아니라 선단공정 전환(advanced node migration)이 빨라지고 있습니다. 이때 EUV는 단일 장비가 아니라 포토레지스트, 블랭크마스크, 펠리클, 마스크 검사, 진공/가스, 정밀 ..